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    引言: 摩托罗拉公司日前宣布,它开发出了两种新技术,可以在电子投射和极限紫外光这两种光刻法中使用ic模块,在100纳米以下的集成电路上实现功能尺寸。
 

 

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    摘要:摩托罗拉公司日前宣布,它开发出了两种新技术,可以在电子投射和极限紫外光这两种光刻法中使用ic模块,在100纳米以下的集成电路上实现功能尺寸。  摩托罗拉公司声称,自己已经“有能力生产具备处理实用芯片尺寸”的大面积模块。在电子投射光刻法步骤中,包含一个拥有重叠图案表面的薄膜以分散电子,并在硅晶片上生成一个翻版映像。而用于极限紫外光刻法模块处理的新技术,则包含一个反射模块,上有一层薄薄的吸收材料,可以......


摩托罗拉在集成电路光刻法工艺上取得突破
  摩托罗拉公司日前宣布,它开发出了两种新技术,可以在电子投射与极限紫外光这两种光刻法中使用ic模块,在100纳米以下的集成电路上实现功能尺寸.

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  摩托罗拉公司声称,自己已经“有能力生产具备处理实用芯片尺寸”的大面积模块.在电子投射光刻法步骤中,包含一个拥有重叠图案表面的薄膜以分散电子,并在硅晶片上生成一个翻版映像.而用于极限紫外光刻法模块处理的新技术,则包含一个反射模块,上有一层薄薄的吸收材料,可以形成图案在硅晶片上生成一个翻版映像.摩托罗拉公司表示,上述新技术将可以使微芯片处理技术达到0.1微米水平之下. 【扩展信息:3LCD投影技术在中国获得强劲动力 PT

  摩托罗拉公司预计,这两种新技术将在下个世纪初期用来印制非常小的功能集成电路.


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